Год выпуска: 2015 Автор: Anil Kumar Gadipelly and M.V.Ramana Reddy Издательство: LAP Lambert Academic Publishing Страниц: 176 ISBN: 9783659539350
Описание
In this book we have discussed the preparation and characterization of CdO thin films using RF reactive magnetron sputtering technique. The deposition parameters such as oxygen partial pressure, substrate temperature and film thickness are optimized for producing good quality films. Systematic characterization of as deposited and annealed films has been discussed from the crystal structure, surface morphology, film composition, optical and electrical properties. The films prepared under optimized conditions are tested for gas sensing characteristics towards ammonia gas.
Хочу выразить Вам огромную благодарность за помощь в написании диплома. Защитилась на 4. Довольна что наконец-то этот ужас закончился. СВОБОДА!!!!! Без Вас я бы точно не справилась. Спасибо еще раз Вам огромное!!!