Год выпуска: 2010 Автор: Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман Издательство: Техносфера Страниц: 544 ISBN: 978-5-94836-222-9
Описание
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного...
Юля, привет! СПАСИБО тебе большое за реферат!!!! Получила его в четверг, но у меня не было возможности написать тебе раньше. Реферат ОЧЕНЬ мне понравился!!! Я первый раз решила сделать на заказ, и, честно говоря, не ожидала, что такой хороший будет!!!!!!! Ты молодчина!!!!! Еще раз огромное тебе СПАСИБО!!!!! МНЕ ДЕЙСТВИТЕЛЬНО ПОНРАВИЛСЯ РЕФЕРАТ!!!!!